真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜

我们一起来分析一下真空镀膜设备的定义-行业诠释

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜

Vacuum coating equipment
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸 发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过
  蒸发镀膜设备+所镀产品图
程,最终形成薄膜。[1]


2018年03月16日

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜

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